ASML最初也只是一家小公司，在當時的光刻機市場，ASML幾乎沒有任何參與感，連續(xù)迭代了幾款產(chǎn)品，都沒能打開市場，贏得客戶的信任。

后來發(fā)展了十多年，才在光刻機市場站穩(wěn)腳跟，后來由于在浸潤式DUV光刻機上獲得先機，算是進入了光刻機市場的第一梯隊。

直到ASML率先突破了EUV光刻機，才算是奠定了ASML的龍頭地位，所以我們看到，近些年來，ASML開始風頭無兩。

不過花無百日紅，用外媒的話說，ASML的時代其實正在宣告結(jié)束。

一直關(guān)注芯片產(chǎn)業(yè)的朋友應該已經(jīng)注意到了，各大芯片廠家，都開始增加對現(xiàn)有工藝的使用時間，不再積極地將自家芯片大規(guī)模的升級到最新工藝。

以蘋果為例，今年發(fā)布的新機，將會繼續(xù)采用A15芯片，只有Pro版本才會用到A16，不過A16也不會升級工藝，依然是5納米技術(shù)。

此外，根據(jù)最新消息顯示，蘋果還在臺積電進行了大規(guī)模的砍單，據(jù)悉比例達到了10%，這意味著至少會有千萬級別的芯片被砍掉。

而且之前蘋果還發(fā)布了M1 Ultra，這顆芯片也沒有升級工藝。

所以我們看到，芯片廠家不僅在降低訂單量，而且也不愿意升級工藝，這都會導致對EUV光刻機的依賴降低，進而減少采購量。

除了我們常見的邏輯芯片，近些年來存儲芯片也開始逐步利用到EUV光刻機，這涉及到3D NAND閃存和DRAM內(nèi)存芯片。

然而我們大陸中企成功通過技術(shù)手段，實現(xiàn)了不用EUV光刻機，也能制造出性能優(yōu)異的產(chǎn)品。

毫無疑問，這給了業(yè)界更多的參考，畢竟EUV光刻機動輒數(shù)十億的成本，能不用還是不用為妙。

此外，業(yè)界還在推動NIL光刻機技術(shù)的發(fā)展，該技術(shù)同樣可以實現(xiàn)先進工藝，目前已經(jīng)推進到5納米，但是成本更低，耗電量也更少。

這些都能極大地減少芯片廠的成本，要知道，如果以7納米芯片的晶圓為基準，那么5納米晶圓的成本是7納米的兩倍，3納米晶圓的成本則是7納米的四倍。

所以我們就看到，盡管包括臺積電、三星等都一直宣稱3納米實現(xiàn)了突破，但是市場上卻遲遲看不到一顆3納米芯片。

不僅如此，對于未來的發(fā)展，臺積電方面已經(jīng)表示，3納米將會是一個長期被采用的工藝，為此臺積電開發(fā)了5個版本的3納米技術(shù)。

這說明，雖然現(xiàn)在各大芯片企業(yè)不愿意升級到3納米，即便以后升級到3納米了，那么也將會長期的維持在3納米。

也就是說，ASML的下一代支持2納米的EUV光刻機，銷量將會并不樂觀。

實際上ASML方面也承認，到2025年，ASML的產(chǎn)能將會大于市場需求，也就是說，市場上對EUV光刻機的需求正在走到極限。

正是因此，近段時間ASML還遭到了金融機構(gòu)的做空，毫無疑問是對ASML的未來并不看好。

而另外一個方面，是我們國產(chǎn)的光刻機也在快速發(fā)展，根據(jù)一位業(yè)內(nèi)人士表示，國內(nèi)廠商目前都開始愿意采用國內(nèi)供應鏈的設(shè)備，因為擔心供應的連續(xù)性問題。

根據(jù)多方的消息顯示，我們國產(chǎn)的28納米光刻機已經(jīng)不遠了，這意味著我們國內(nèi)廠商所需要的大部分光刻機，都可以國內(nèi)供應。

因為我們國內(nèi)的芯片工廠，大部分工藝還是28納米及以上，像22納米、14納米的訂單還是占據(jù)少數(shù)。

所以總結(jié)來看，在第二代EUV光刻機上，對比第一代EUV光刻機，ASML的訂單數(shù)量驟降。

在第一代EUV光刻機上，已經(jīng)主要是存量市場，各大芯片廠的擴產(chǎn)已經(jīng)接近尾聲，還有NIL光刻機在不斷搶占市場，在存儲領(lǐng)域還實現(xiàn)了不依賴EUV光刻機的技術(shù)。

而在DUV光刻機上，我們國內(nèi)光刻機在快速推進，ASML的空間在快速被擠壓。

所以說ASML的時代正在宣告結(jié)束，對此大家怎么看呢？歡迎留言、點贊、轉(zhuǎn)發(fā)。